Лазерный гравер/маркиратор Mark Standard CO2
Комплекс лазерной маркировки Mark Standart CO2 применяется для проведения работ по маркировке, гравировке и прецензионной резке изделий!
Лазерный маркиратор промышленного типа в исполнении - готовое рабочее место, он очень удобен для производства. Чтобы начать выполнять задачи по маркировке или гравировке требуется всего лишь подключить комплекс к электричеству!
Применяется для: промышленной гравировки и маркировки штампов, клише, ювелирных изделий и сувенирной продукции, 3D гравировка, нанесение фирменной символики, логотипов, различных изображений, гравировка по ГОСТ, фигурная резка и др.
Материалы: металлы (сталь, алюминий, латунь, титан, окрашенные (анодированные) поверхности),камень, резина, пластмассы, пластики, полимеры.
Компания ООО "ПГ Векпром" осуществляет полный спектр работ по вопросам подбора нужного Вам оборудования, настройки и обучения операторов как удалённо, так и на вашей производственной площадке.
- Настройка оборудования нашими инженерами.
- Русифицированное ПО с постоянным обновлением.
- Обучение Ваших сотрудников работе на оборудование.
- Техническая поддержка наших инженеров 24/7.
- Гарантия до 2-х лет.
Производитель |
Tokagama |
Обрабатываемые материалы |
Металл, пластик, кожа, керамика, камень, резина, каучук, дерево, фанера, МДФ/ДВП/ДСП/ОСП, стекло, оргстекло, бумага, картон, сыр |
Лазерный излучатель |
импульсный волоконный лазер «Стандарт» / серии «VaR» |
Производители излучателей |
IPG Photonics (США), Raycus (КНР), JPT (КНР) |
Опции выходной мощности |
20 Вт, 30 Вт, 50 Вт, 60 Вт, 80 Вт, 100 Вт |
Энергия в импульсе излучения, МДж |
до 2 |
Длительность импульсов |
120 нс / 2нс-500нс |
Частота следования импульсов |
Регулируемая, от 20 кГц до 200кГц / 1 – 4000 кГц |
Оптика |
Ronar Smith Wavelength "OPEX" |
Рабочее поле |
65х65 мм, 110x110 мм, 150х150 мм, 175х175 мм, 200x200 мм, 220х220 мм, 300х300 мм |
Управление |
Встроенный ПК |
Система перемещения луча |
2-х осевой гальванометрический сканатор Sino Galvo (КНР) / Scan Lab (Германия) |
Скорость перемещения луча, мм/сек |
до 10 000 |
Ресурс, ч |
40 000 |